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中國買不到最先進EUV機 ASML：晶片製造技術落後10至15年 - Trump - 12-27-2024
中國買不到最先進EUV機 ASML：晶片製造技術落後10至15年
粵語組報道
2024.12.27
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中國買不到最先進EUV機 ASML：晶片製造技術落後10至15年
全球約90%晶片由ASML的曝光設備生產，隨著先進製程朝5納米及以下進化，EUV已是未來曝光技術和先進製程的核心。
路透社圖片
荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長福克（Christophe Fouquet）表示，美國禁止極紫外光（EUV）曝光設備出口中國的禁令確實有效，導致中國晶片技術落後西方10至15年。
福克接受荷蘭《鹿特丹商報》（NRC）專訪指出，由於無法取得取先進的EUV設備，中芯國際與華為只能使用深紫外光（DUV）曝光設備，在成本效益上無法與晶片代工龍頭台積電的製程技術相提並論，目前落後西方約10至15年，華府的禁令確實產生效果。
每個環節中國都有一定基礎
不過，福克表示，即使ASML無法向中國供應最先進的EUV技術，但中國晶片業界仍在奮力研發，在每個環節都具備一定基礎，持續自主發展，而不論中、美或其他國家，都視ASML為一塊關鍵拼圖。
全球約90%晶片由ASML的曝光設備生產，隨著先進製程朝5納米及以下進化，EUV已是未來曝光技術和先進製程的核心，現主要用於7納米及以下的先進晶片製程，而ASML是唯一EUV設備供應商。
華為及合作夥伴已在積極開發極紫外線曝光技術，以建立自家的晶片製造設備和生態系統；有報道指出，雖然中國不太可能短期內打造出可生產5納米晶片、類似「Twinscan NXT:2000i」的DUV設備，但複製出不太先進的東西可容易得多。
對於近月屢傳美國要求荷蘭禁止ASML為中國客戶提供維修服務，福克表示，ASML希望可以管理在中國的機器，若由當地客戶自行維修設備以維持晶片工廠運作，恐更容易出現資訊外洩，希望華府能明白箇中道理。
編輯：李向陽（台北） 網編：陳家傑